长期以来，多晶太阳电池表面反射率较高的难题一直得不到有效解决，制约了电池效率的进一步提升。湿法黑硅技术(MetalCatalyzedChemicalEtching，MCCE)成功解决了这一难题，突破了这方面的效率限制。该技术既适用于砂浆切割硅片，也适用于金刚线切硅片，是降本增效的利器，将来势必成为多晶电池的标配技术。阿特斯历经3年自主研发，攻克多道技术难关，在2014年底成功量产，开辟了湿法黑硅技术产业化的新纪元。本文主要从技术优势、成本优势、关键技术、以及产业化进程几个方面介绍湿法黑硅技术。...
